首页> 外国专利> Dichroic mirror, method for manufacturing a dichroic mirror, lithographic apparatus, semiconductor device and method of manufacturing therefor.

Dichroic mirror, method for manufacturing a dichroic mirror, lithographic apparatus, semiconductor device and method of manufacturing therefor.

机译:二向色镜,二向色镜的制造方法,光刻设备,半导体器件及其制造方法。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号NL1036891A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;

    申请/专利号NL20091036891

  • 发明设计人 TJARKO ADRIAAN RUDOLF VAN EMPEL;

    申请日2009-04-21

  • 分类号G03F7/20;

  • 国家 NL

  • 入库时间 2022-08-21 19:26:17

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号