机译:具有用于处理基板的反应室的扩散炉,包括用于产生气流的第一单元以及用于影响气流的第二和漏斗形的第三单元,其中第一和第二单元布置在该室中
公开/公告号DE102007058053A1
专利类型
公开/公告日2009-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;
申请/专利号DE20071058053
申请日2007-11-30
分类号C30B31/16;H01L21/68;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 19:09:28