要解决的问题:通过用于抑制P沟道MOS晶体管中的负偏置温度不稳定性的系统和方法来改善电路的性能。
解决方案:公开了一种用于抑制P沟道CMOS晶体管中的负偏置温度不稳定性的系统和该系统的方法。该系统包括P沟道CMOS晶体管和电压控制电路。系统中用于P沟道CMOS晶体管的源极连接到电源,并且电压控制电路被安装以便输出第一电势和第二电势。第一电势不同于第二电压,第一电势低于电源电压,并且第二电势高于或等于电源电压。当系统中的P沟道MOS晶体管导通时,第一电势被施加到P沟道MOS晶体管的衬底。当P沟道MOS晶体管截止时,第二电势被施加到用于P沟道MOS晶体管的基板。
版权:(C)2010,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2010109969A
专利类型
公开/公告日2010-05-13
原文格式PDF
申请/专利号JP20090209804
申请日2009-09-10
分类号H03K19/094;H03K19/0948;H01L21/822;H01L27/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:06:00