要解决的问题:减小半导体集成电路上通孔的布局密度值之间的差异。
解决方案:该通孔布局设备包括:提取部,其从半导体集成电路的设计数据中提取将上层布线连接至下层布线的现有通孔。计算部针对每个通孔计算在由提取部提取的每个通孔周围的预定范围内的布局密度;选择部从由提取部提取的贯通孔中,将计算部计算出的布局密度小于规定值的贯通孔选择为目标贯通孔。附加布置部分,将以目标通孔为中心的预定范围内的预定位置确定为通孔的附加布置位置,并在设计数据上的附加布置位置处附加布置通孔。
版权:(C)2010,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009295854A
专利类型
公开/公告日2009-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 ELPIDA MEMORY INC;
申请/专利号JP20080149172
申请日2008-06-06
分类号H01L21/82;G06F17/50;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:01:55