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Growth of non-polar gallium nitride low dislocation density by hydride vapor phase growth method

机译:氢化物气相生长法生长低位错密度的非极性氮化镓

摘要

Defective density is made to decrease considerably hydro ride vapor phase growth method (HVPE) the nonpolar characteristic a surface nitriding gallium which is used (GaN) epitaxial cross direction over growth of the membrane (LEO) with.
机译:使缺陷密度大大降低水蒸气气相生长法(HVPE)的非极性特性,所使用的表面氮化镓(GaN)外延横向与膜(LEO)的生长有关。

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