机译:通过直接在连续氢化物气相外延(HVPE)过程中直接形成的多肽中间层(GaN)的自由型氮化镓(GaN)的生长
机译:在独立的HVPE氮化镓上通过分子束外延生长GaN和AlGaN / GaN异质结构的同质外延,用于电子设备应用
机译:在氢化物气相外延生长的低缺陷密度极性和非极性独立式GaN衬底上的时间分辨光致发光,正电子ni灭和Al0.23Ga0.77N / GaN异质结构生长研究
机译:在氢化物气相外延生长的低缺陷密度极性和非极性独立式GaN衬底上的时间分辨光致发光,正电子ni灭和Al_0.23Ga_0.77N / GaN异质结构生长研究
机译:氢化物气相外延(HVPE)使用GaN / Si(111)模板进行的厚GaN生长
机译:通过氢化物气相外延形成氮化镓模板和独立衬底,用于III族氮化物器件的同质外延生长。
机译:GaN纳米线的氢化镓气相外延
机译:高温氢化物气相外延(HT-HVPE)在(0001)AlN模板上生长氮化硼