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In imprint manner and the imprint manner which transcribes the imprint

机译:以烙印方式和抄写烙印的烙印方式

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel imprinting method enabling a high throughput to be realized.;SOLUTION: The imprinting method for transcribing an imprinting pattern formed on a mold on a pattern transcript on a substrate comprises contacting the pattern transcript with the imprinting pattern, extending a contact area of the imprinting pattern and the pattern transcript by applying a first pressure between the mold and the substrate, and controlling the positional relationship between the mold and the substrate by applying a second pressure lower than the first pressure.;COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种能够实现高通量的新颖的压印方法;解决方案:用于将形成在模具上的压印图案转录到基板上的图案转录物上的压印方法包括使图案转录物与压印图案接触通过在模具和基板之间施加第一压力来扩展压印图案和图案笔录的接触面积,并通过施加低于第一压力的第二压力来控制模具与基板之间的位置关系。 (C)2007,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP4533358B2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 キヤノン株式会社;

    申请/专利号JP20060244326

  • 发明设计人 末平 信人;関 淳一;

    申请日2006-09-08

  • 分类号B29C59/02;H01L21/027;B81C99/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 18:59:49

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