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Nonvolatile rewritable memory cell comprising a resistivity-switching oxide or nitride and an antifuse

机译:包括电阻率转换氧化物或氮化物以及反熔丝的非易失性可重写存储单元

摘要

A memory cell is described, the memory cell comprising a dielectric rupture antifuse and a layer of a resistivity-switching material arranged electrically in series, wherein the resistivity-switching material is a metal oxide or nitride compound, the compound including exactly one metal. The dielectric rupture antifuse is ruptured in a preconditioning step, forming a rupture region through the antifuse. The rupture region provides a narrow conductive path, serving to limit current to the resistivity-switching material, and improving control when the resistivity-switching layer is switched between higher- and lower-resistivity states.
机译:描述了一种存储单元,该存储单元包括介电断裂反熔丝和电串联布置的电阻率切换材料层,其中该电阻率切换材料是金属氧化物或氮化物化合物,该化合物恰好包括一种金属。介电破裂反熔丝在预处理步骤中破裂,从而通过反熔丝形成破裂区域。破裂区域提供了狭窄的导电路径,用于限制流向电阻率切换材料的电流,并在电阻率切换层在高电阻率状态和低电阻率状态之间切换时改善了控制。

著录项

  • 公开/公告号US7829875B2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ROY E. SCHEUERLEIN;

    申请/专利号US20060395421

  • 发明设计人 ROY E. SCHEUERLEIN;

    申请日2006-03-31

  • 分类号H01L45/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:48:58

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