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InP based heterojunction bipolar transistors with emitter-up and emitter-down profiles on a common wafer

机译:基于InP的异质结双极晶体管,在同一晶片上具有发射极-发射极和发射极-下降曲线

摘要

A wafer comprising at least one emitter-up Heterojunction Bipolar Transistor (HBT) and at least one emitter-down HBT on a common InP based semiconductor wafer. Isolation and N-type implants into the device layers differentiate an emitter-down HBT from an emitter-up HBT. The method for preparing a device comprises forming identical layers for all HBTs and performing ion implantation to differentiate an emitter-down HBT from an emitter-up HBT.
机译:一种晶片,在普通的基于InP的半导体晶片上包括至少一个上发射极异质结双极晶体管(HBT)和至少一个下发射极HBT。器件层中的隔离和N型注入使发射极向下的HBT与发射极向上的HBT区别开来。制备器件的方法包括为所有HBT形成相同的层并进行离子注入,以使发射极向下的HBT与发射极向上的HBT区分。

著录项

  • 公开/公告号US7655529B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MARY CHEN;MARKO SOKOLICH;

    申请/专利号US20050052935

  • 发明设计人 MARY CHEN;MARKO SOKOLICH;

    申请日2005-02-07

  • 分类号H01L21/331;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:48:15

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