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HIGH THROUGHPUT PHYSICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM FOR MATERIAL COMBINATORIAL STUDIES

机译:用于材料组合研究的高通量物理气相沉积系统

摘要

An infinitely variable physical vapor deposition matrix system that allows thesynthesis of multiple combinatorial catalyst samples at essentially the sametime, by the co-deposition of multiple materials, or the sequential layer bylayer deposition of multiple catalyst constituents, or both, such that theoptimum mix of materials for a pre-determined application can beexperimentally determined in subsequent testing. The discovery of optimalcatalyst combinations for utilization in specified reactions and devices isfacilitated. The high throughput system reduces the time and complexity ofprocessing typically required to formulate and test combinatorial catalystmaterials.
机译:无限可变物理气相沉积矩阵系统基本相同的多种组合催化剂样品的合成时间,通过多种材料的共同沉积,或通过多种催化剂成分或两者的层沉积,使得可以为预定应用优化材料混合在后续测试中由实验确定。最优的发现用于特定反应和装置的催化剂组合为方便。高通量系统减少了时间和复杂性配制和测试组合催化剂通常需要的处理材料。

著录项

  • 公开/公告号CA2551722C

    专利类型

  • 公开/公告日2010-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HONDA MOTOR CO. LTD.;

    申请/专利号CA20052551722

  • 发明设计人 HE TING;KREIDLER ERIC R.;NOMURA TADASHI;

    申请日2005-01-11

  • 分类号B01J37/02;C23C14/32;C23C16/00;C40B60/14;

  • 国家 CA

  • 入库时间 2022-08-21 18:42:41

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