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PILLAR ARRAY PLATFORM, METHOD OF MASK USING PILLAR ARRAY PLATFORM, AND METHOD OF TREATING SURFACE USING MASK

机译:柱状阵列平台,使用柱状阵列平台的蒙版方法以及使用蒙版处理表面的方法

摘要

PURPOSE: A pillar array platform, a manufacturing method of a mask using thereof, and a surface processing method using the mask are provided to secure the high pattern fidelity and the structural strength of a pillar. CONSTITUTION: A pillar array platform(100) for manufacturing a mask comprises the following: a substrate(110); and a pillar array formed with a pillar(120) including the aspect ratio of 5~30 on the substrate. The substrate includes a glass, a metal, silicon, or a polymer. The pillar is a cured material of a photo-crosslinkable adhesive composition. The pillar has the height of 1~6 millimeters, and the thickness of 100~1,000 micrometers.
机译:目的:提供柱阵列平台,使用其的掩模的制造方法以及使用掩模的表面处理方法,以确保柱的高图案保真度和结构强度。构成:用于制造掩模的支柱阵列平台(100),包括:基板(110);和用于制造掩模的支柱阵列平台(100)。在基板上形成有长径比为5〜30的支柱(120)的支柱阵列。基板包括玻璃,金属,硅或聚合物。支柱是可光交联的粘合剂组合物的固化材料。柱子的高度为1〜6毫米,厚度为100〜1000微米。

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