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Ion source for generating a particle beam, an electrode for an ion source as well as a method for the introduction of a gas to be ionized in an ion source

机译:用于产生粒子束的离子源,用于离子源的电极以及在离子源中引入待电离的气体的方法

摘要

An ion source (2) for generating a particle beam comprises a plasma chamber (4) and an electrode (8) which are suitable for the plasma chamber (4) extends. A to ionizing gas, via a gas duct into the ion source (2) is initiated, wherein the gas line (6) extend over the entire length of the electrode (8) parallel to the electrode (8), so that, the gas in the immediate vicinity of an inlet (4) of the plasma chamber (4) from the gas line (6) flows out.
机译:用于产生粒子束的离子源(2)包括等离子体室(4)和适合于等离子体室(4)延伸的电极(8)。经由气体导管向离子源(2)引发电离气体,其中气体管线(6)在平行于电极(8)的电极(8)的整个长度上延伸,因此,气体在等离子室(4)的入口(4)附近的气体从气体管线(6)流出。

著录项

  • 公开/公告号DE102009017647A1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE20091017647

  • 发明设计人

    申请日2009-04-16

  • 分类号H05H7/08;H05H1/34;H01J27/02;A61N5/10;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 18:28:22

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