机译:用于制造微光刻投影曝光设备的光学表面的方法,涉及通过局部化学和/或物理干法刻蚀以各向同性和各向异性的方式去除材料,并对去除的材料进行抛光
公开/公告号DE102009019122A1
专利类型
公开/公告日2010-08-26
原文格式PDF
申请/专利权人 CARL ZEISS SMT AG;
申请/专利号DE20091019122
申请日2009-04-29
分类号G02B3/02;G03F7/20;G02B5/10;B24B13/00;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 18:28:18