要解决的问题:提供一种通过高效率地从用于冷却反应炉的冷却剂中回收热量并通过减少在多晶硅中析出多晶硅时杂质从反应炉内壁的混合来生产高纯度多晶硅的技术。反应炉。
解决方案:在用于生产高纯度多晶硅的系统中,将温度高于标准沸点的热水15用作冷却剂,以供应至反应炉10,以保持反应釜10的内壁温度。在370℃或更低温度下的反应堆中,热水15由设置在冷却剂箱20中的压力控制单元排空以产生蒸汽,并取出一部分蒸汽以用作另一目的的加热源。由R = [Cr] + [Ni] -1.5 [Si]定义的R值为40%以上的组成的合金材料被用作用于设置在该材料中的耐腐蚀层11a的材料。反应炉内壁10的内侧。
COPYRIGHT:(C)2011,JPO&INPIT
公开/公告号JP2011057527A
专利类型
公开/公告日2011-03-24
原文格式PDF
申请/专利权人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO LTD;
申请/专利号JP20090211806
申请日2009-09-14
分类号C01B33/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:23:24