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Ultra-Low Energy RRAM with Good Endurance and Retention

机译:超低能耗RRAM,具有良好的耐久性和保持性

摘要

This invention proposes an ultra-low energy (ULE) RRAM with electrode1/covalent-bond-dielectric/metal-oxide/electrode2/substrate structure, where the sequence of covalent-bond-dielectric layer and metal-oxide layer is exchangeable. Stacked dielectric layers of covalent-bond-dielectric and metal-oxide are used to improve the switching power and energy, retention and cycling endurance of resistance random access memory.
机译:本发明提出了一种具有电极- 1 /共价键介电/金属氧化物/电极-的超低能量(ULE)RRAM。 2 /衬底结构,其中共价键介电层和金属氧化物层的顺序可互换。共价键电介质和金属氧化物的堆叠电介质层用于改善电阻随机存取存储器的开关功率和能量,保持力和循环耐久性。

著录项

  • 公开/公告号US2011193043A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ALBERT CHIN;

    申请/专利号US20100700726

  • 发明设计人 ALBERT CHIN;

    申请日2010-02-05

  • 分类号H01L45/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:16:24

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