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procedures for a focused electron beam induced etching by

机译:聚焦电子束诱导腐蚀的程序

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号AT497250T

    专利类型

  • 公开/公告日2011-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARL ZEISS SMS GMBH;

    申请/专利号AT20020023217T

  • 发明设计人 EDINGER KLAUS;KOOPS HANS WILFRIED PETER;

    申请日2002-10-16

  • 分类号H01J37/305;H01L21/302;C23F1/00;H01Jnull/null;H01J37/317;H01L21/027;

  • 国家 AT

  • 入库时间 2022-08-21 18:03:35

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