首页> 外文OA文献 >Controlled focused electron beam-induced etching for the fabrication of sub-beam-size nanoholes

【2h】

Controlled focused electron beam-induced etching for the fabrication of sub-beam-size nanoholes

机译：控制聚焦电子束诱导的蚀刻用于制造子梁尺寸纳米孔

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Hiroyuki Miyazoe; Ivo Utke; Johann Michler; Kazuo Terashima;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2008
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Controlled focused electron beam-induced etching for the fabrication of sub-beam-size nanoholes [J] . Hiroyuki Miyazoe, Ivo Utke, Johann Michler, Applied Physics Letters . 2008,第4期

机译：可控聚焦电子束诱导刻蚀，用于制造亚束大小的纳米孔
2. The controlled fabrication of nanopores by focused electron-beam-induced etching [J] . M Yemini, B Hadad, Y Liebes, Nanotechnology . 2009,第24期

机译：聚焦电子束诱导刻蚀可控制地制造纳米孔
3. Fabrication and electrical transport properties of binary Co-Si nanostructures prepared by focused electron beam-induced deposition [J] . F. Porrati, B. Kaempken, A. Terfort, Journal of Applied Physics . 2013,第5期

机译：聚焦电子束诱导沉积制备二元Co-Si纳米结构的制备和电传输性质
4. Focused electron beam induced etching and in-situ monitoring: Fabrication of sub-beam sized nanoholes [C] . H. Miyazoe, I. Utke, J. Michler, International Microprocesses and Nanotechnology Conference . 2007

机译：聚焦电子束诱导蚀刻和原位监测：亚梁尺寸纳米孔的制造
5. A new route to nanoscale tomographic chemical analysis: Focused ion beam-induced auger electron spectrosocpy. [D] . Parvaneh, Hamed. 2014

机译：纳米层析成像化学分析的新途径：聚焦离子束诱导的俄歇电子能谱。
6. Combined Focused Electron Beam-Induced Deposition and Etching for the Patterning of Dense Lines without Interconnecting Material [O] . Sangeetha Hari, P. H. F. Trompenaars, J. J. L. Mulders, 2021

机译：结合聚焦的电子束诱导的沉积和蚀刻用于致密线的图案化而不互连材料
7. Focused electron beam induced etching and in-situ monitoring: Fabrication of sub-beam sized nanoholes [O] . H. Miyazoe, I. Utke, J. Michler, 2007

机译：聚焦电子束诱导蚀刻和原位监测：亚梁尺寸纳米孔的制造
8. Fabrication of Visibly Photoluminescent Si Microstructures by Focused Ion BeamImplantation and Wet Etching [R] . Xu, J., Steckl, A. J. 1994

机译：聚焦离子束注入和湿法刻蚀制备可见光致发光si微结构

Controlled focused electron beam-induced etching for the fabrication of sub-beam-size nanoholes

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅