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POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATING FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

机译:用于层间绝缘膜,层间绝缘膜,有机EL显示设备和液晶显示设备的正型光敏树脂组合物

摘要

PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition for an interlayer insulating film is provided to ensure high transparency and excellent insulation property when baked at a high temperature. CONSTITUTION: A positive type photosensitive resin composition for an interlayer insulating film comprises: (A) an alkali soluble resin including an acrylic repeating unit; (B) a 1,2-quinonediazide compound; and (C) a compound with at least two partial structures represented by chemical formula (I), which has 600-2000 of molecular weight. In chemical formula (I), R^1 and R^2 are independently show a methyl group or tert-butyl group, wherein at least one of R^1 and R^2 is a tert-butyl group; and R^3 is -O- or -NH-.
机译:用途:提供一种用于层间绝缘膜的正型光敏树脂组合物,以确保在高温下烘烤时具有高透明度和优异的绝缘性能。构成层间绝缘膜的正型光敏树脂组合物,其包含:(A)包含丙烯酸重复单元的碱溶性树脂; (B)1,2-醌二叠氮化合物; (C)具有至少两个由化学式(I)表示的部分结构的化合物,其具有600-2000的分子量。在化学式(I)中,R ^ 1和R ^ 2独立地表示甲基或叔丁基,其中R ^ 1和R ^ 2中的至少一个是叔丁基; R ^ 3为-O-或-NH-。

著录项

  • 公开/公告号KR20110001879A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-01-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;

    申请/专利号KR20100049795

  • 发明设计人 SUGIHARA KOICHI;YAMADA SATORU;

    申请日2010-05-27

  • 分类号G03F7/039;G03F7/022;G02F1/13;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:52:45

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