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METHOD OF REMOVING PHOSPHORUS FLUORIDE VOLATILE IMPURITIES FROM SILICON TETRAFLUORIDE

机译:从四氟化硅中除去磷中的挥发性杂质的方法

摘要

FIELD: chemistry.;SUBSTANCE: invention can be used in the of polycrystalline silicon. Silicon tetrafluoride and volatile phosphorus fluorides undergo combined sorption on sodium fluoride at temperature 200-250°C. Water vapour is fed at temperature 450-550°C, and purified silicon tetrafluoride is desorbed and condensed.;EFFECT: invention enables to obtain silicon tetrafluoride with purity of up to 99,7%.;1 tbl, 1 ex
机译:领域:化学。物质:本发明可用于多晶硅。四氟化硅和挥发性氟化磷在200-250°C的温度下联合吸附在氟化钠上。在温度为450-550°C的条件下进料水蒸气,然后将纯净的四氟化硅解吸并冷凝。效果:本发明能够获得纯度高达99.7%的四氟化硅。1 tbl,1 ex

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