要解决的问题:提供一种防反射膜的制造装置,其允许以简单的结构连续形成。
解决方案:防反射膜的制造设备包括硬涂层形成机构10和防反射层形成机构20。硬涂层形成机构10具有与基体相对设置的第一环形体111。材料片材1,第一供给部12向第一环状体111的周面供给硬膜形成用树脂,第一烘烤部13烘烤硬膜形成用树脂,第一冷却部14冷却硬膜形成用树脂。防反射层形成机构20具有与基材片1相对配置的第二环状体211,将防反射层形成用树脂供给至第二环状体211的周面的第二供给部22,第二烧成工序。第二部分23烘烤防反射层形成树脂,第二冷却部分24冷却防反射层形成树脂。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP4835219B2
专利类型
公开/公告日2011-12-14
原文格式PDF
申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;
申请/专利号JP20060078258
发明设计人 高田 敬介;
申请日2006-03-22
分类号G02B1/11;B32B7/02;G02B1/10;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:36:52