首页> 外国专利> 1st body of revolution

1st body of revolution

机译:第一场革命

摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing apparatus of an anti-reflection film for allowing continuous formation with a simple structure. PSOLUTION: The manufacturing apparatus of an anti-reflection film is provided with a hard coat forming mechanism 10 and an anti-reflection layer forming mechanism 20. The hard coat forming mechanism 10 has a first annular body 111 disposed opposite to a base material sheet 1, a first supplying part 12 supplying a hard coat forming resin to a peripheral surface of the first annular body 111, a first baking part 13 baking the hard coat forming resin and a first cooling part 14 cooling the hard coat forming resin. The anti-reflection layer forming mechanism 20 has a second annular body 211 disposed opposite to the base material sheet 1, a second supplying part 22 supplying an anti-reflection layer forming resin to a peripheral surface of the second annular body 211, a second baking part 23 baking the anti-reflection layer forming resin and a second cooling part 24 cooling the anti-reflection layer forming resin. PCOPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
机译:

要解决的问题:提供一种防反射膜的制造装置,其允许以简单的结构连续形成。

解决方案:防反射膜的制造设备包括硬涂层形成机构10和防反射层形成机构20。硬涂层形成机构10具有与基体相对设置的第一环形体111。材料片材1,第一供给部12向第一环状体111的周面供给硬膜形成用树脂,第一烘烤部13烘烤硬膜形成用树脂,第一冷却部14冷却硬膜形成用树脂。防反射层形成机构20具有与基材片1相对配置的第二环状体211,将防反射层形成用树脂供给至第二环状体211的周面的第二供给部22,第二烧成工序。第二部分23烘烤防反射层形成树脂,第二冷却部分24冷却防反射层形成树脂。

版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP4835219B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;

    申请/专利号JP20060078258

  • 发明设计人 高田 敬介;

    申请日2006-03-22

  • 分类号G02B1/11;B32B7/02;G02B1/10;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:36:52

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号