机译:以及其背板组件-其溅射靶的制造方法以及由难熔金属硼化物难熔金属合金,难熔金属硅化物,难熔金属碳化物或难熔金属氮化物的烧结性差的组成的靶材的制造方法
公开/公告号JP4927102B2
专利类型
公开/公告日2012-05-09
原文格式PDF
申请/专利权人 JX日鉱日石金属株式会社;
申请/专利号JP20080557077
发明设计人 山越 康廣;
申请日2008-01-30
分类号C23C14/34;B23K35/14;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:36:26