提供一种通过简单的方法来制造含AlN的AlN系III族氮化物的独立状态的单晶的方法。
解决方案:第一中间层4形成在基底基板3上,其中在蓝宝石基底材料1上形成AlN生长的基底层2,并且进一步通过HVPE(氢化物)形成AlN单晶层7气相外延)工艺,从而获得层叠体10。在这种情况下,第一中间层4由分解温度低于单晶层7的物质形成,并且优选地由III族氮化物形成。例如AlGaN。当在高于第一中间层4的分解温度并且低于单晶层7的分解温度的温度下加热堆叠体10时,例如,将其加热到1650℃。接着,如图1C所示,第一中间层4被分解,从而能够得到以AlN单晶层7的一部分为主成分的独立状态的AlN系III族氮化物单晶7a。
版权:(C)2007和JPO&INPIT
公开/公告号JP4907127B2
专利类型
公开/公告日2012-03-28
原文格式PDF
申请/专利权人 国立大学法人三重大学;日本碍子株式会社;
申请/专利号JP20050245803
申请日2005-08-26
分类号C30B29/38;C23C16/01;C23C16/34;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:36:02