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GENERATION METHOD, CREATION METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE FABRICATION METHOD, STORAGE MEDIUM, AND GENERATION APPARATUS

机译:生成方法,创建方法,曝光方法,设备制造方法,存储介质和生成装置

摘要

The present invention provides a generation method that obtains a position at which an auxiliary pattern is to be placed and generates a mask pattern (its data), which achieves excellent imaging performance, even when a halftone mask is used as an original.
机译:本发明提供了一种生成方法,该生成方法获得将要放置辅助图案的位置并生成掩模图案(其数据),即使将半色调掩模用作原稿,该掩模图案也能够实现优异的成像性能。

著录项

  • 公开/公告号US2012009509A1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-01-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MANABU HAKKO;MIYOKO KAWASHIMA;

    申请/专利号US201113176815

  • 发明设计人 MANABU HAKKO;MIYOKO KAWASHIMA;

    申请日2011-07-06

  • 分类号G03F7/20;G06F17/50;G03F1;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:32:32

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