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Highly Stabilized p-type Zinc Oxide Thin Film and Fabrication Method Thereof

机译:高度稳定的p型氧化锌薄膜及其制造方法

摘要

PURPOSE: A highly stabilized P type zinc oxide thin film and a manufacturing method thereof are provided to easily control a nitrogen doping density which is activated by using a nitrogen injection quantity, a thermal process temperature or a combination thereof. CONSTITUTION: An N type zinc oxide thin film is formed on a substrate(s100). Nitrogen is physically injected to an N type zinc oxide thin film(s200). The zinc oxide thin film of an insulator is made(s300). A P type zinc oxide thin film is made by thermally processing the zinc oxide thin film with the nitrogen(s400,s500).
机译:目的:提供一种高度稳定的P型氧化锌薄膜及其制造方法,以容易地控制氮掺杂密度,该氮掺杂密度通过使用氮注入量,热处理温度或其组合来活化。构成:在衬底上形成N型氧化锌薄膜(S100)。将氮气物理注入到N型氧化锌薄膜中(S200)。制造绝缘体的氧化锌薄膜(S300)。通过用氮对氧化锌薄膜进行热处理来制造P型氧化锌薄膜(s400,s500)。

著录项

  • 公开/公告号KR101104876B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-01-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20090095598

  • 申请日2009-10-08

  • 分类号H01L21/31;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:08:46

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