首页> 外国专利> METHOD OF PRODUCING POLYMER THIN FILM HAVING MICROSTRUCTURE AND PATTERN SUBSTRATE

METHOD OF PRODUCING POLYMER THIN FILM HAVING MICROSTRUCTURE AND PATTERN SUBSTRATE

机译:具有微观结构和图案基质的聚合物薄膜的制备方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a polymer thin film having a pattern with coexisted regions each consisting of regular patterns having different periods on a substrate surface or a pattern having a distribution in periods of regular patterns, which is formed by a micro-phase separation of a polymer block copolymer.;SOLUTION: A method of producing a polymer thin film includes a step of arranging a polymer layer containing a polymer block copolymer composition on the surface of a substrate, and separating the micro-phase of the polymer layer. The substrate surface has patterns formed on a surface 1 and a surface 2 with different chemical characteristics. Moreover, a polymer mutually soluble into a first polymer chain or a second polymer chain, or a second polymer block copolymer is mixed in specific proportions with a polymer block copolymer in which the polymer block copolymer composition consists of a first polymer block chain and a second polymer block chain.;COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种制造具有图案的聚合物薄膜的方法,所述图案具有共存区域,每个区域由在基板表面上具有不同周期的规则图案或具有规则图案周期分布的图案组成,所述图案由规则图案形成。解决方案:制备聚合物薄膜的方法包括以下步骤:将包含聚合物嵌段共聚物组合物的聚合物层布置在基底表面上,并分离聚合物层的微相。聚合物层。基板表面具有形成在具有不同化学特性的表面1和表面2上的图案。此外,将互溶在第一聚合物链或第二聚合物链中的聚合物或第二聚合物嵌段共聚物以特定比例与其中聚合物嵌段共聚物组合物由第一聚合物嵌段链和第二聚合物嵌段构成的聚合物嵌段共聚物混合。聚合物嵌段链。;版权:(C)2013,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2013129836A

    专利类型

  • 公开/公告日2013-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI LTD;

    申请/专利号JP20130000291

  • 发明设计人 YOSHIDA HIROSHI;TADA YASUHIKO;

    申请日2013-01-07

  • 分类号C08L53/00;H01L21/027;C08F293/00;B32B38/00;G03F7/20;B82Y40/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:02:30

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号