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Layout design program, recording medium storing the program, layout design apparatus, and layout design method

机译:布局设计程序,存储该程序的记录介质,布局设计装置和布局设计方法

摘要

A layout design apparatus that limits the maximum wiring density and the maximum edge length of partial regions when determining wiring layout. After determining the wiring layout, the layout design apparatus inserts a dummy into a partial region having a low wiring density and thereby, the minimum wiring density and the minimum edge length of the partial regions are limited. Thus, the respective wiring densities and respective edge lengths of the partial regions are constrained within a constant range and irregularities in the substrate surface after polishing can be suppressed.
机译:当确定布线布局时,布局设计设备限制最大布线密度和部分区域的最大边缘长度。在确定布线布局之后,布局设计设备将虚拟插入到布线密度低的部分区域中,从而限制了部分区域的最小布线密度和最小边缘长度。因此,部分区域的各个配线密度和各个边缘长度被限制在恒定范围内,并且可以抑制抛光之后基板表面中的不规则性。

著录项

  • 公开/公告号JP5262065B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-08-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号JP20070283393

  • 发明设计人 福田 大輔;

    申请日2007-10-31

  • 分类号H01L21/82;H01L21/822;H01L27/04;H01L21/768;H01L21/321;H01L21/3205;H01L23/522;G06F17/50;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:58:39

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