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P-I-N diode crystallized adjacent to a silicide in series with a dielectric material

机译:与电介质材料串联的硅化物附近结晶的P-I-N二极管

摘要

A vertically oriented p-i-n diode is provided that includes semiconductor material crystallized adjacent a silicide, germanide, or silicide-germanide layer, and a dielectric material arranged electrically in series with the diode. The dielectric material has a dielectric constant greater than 8, and is adjacent a first metallic layer and a second metallic layer. Numerous other aspects are provided.
机译:提供垂直取向的p-i-n二极管,其包括在硅化物,锗化物或硅化物-锗化物层附近结晶的半导体材料,以及与二极管电串联布置的介电材料。介电材料具有大于8的介电常数,并且与第一金属层和第二金属层相邻。提供了许多其他方面。

著录项

  • 公开/公告号US8330250B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SCOTT BRAD HERNER;

    申请/专利号US201113229747

  • 发明设计人 SCOTT BRAD HERNER;

    申请日2011-09-11

  • 分类号H01L29/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:46:07

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