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Vertical spacer electrodes for variable-resistance material memories and vertical spacer variable-resistance material memory cells

机译:用于可变电阻材料存储的垂直间隔电极和垂直间隔可变材料存储单元

摘要

Variable-resistance memory material cells are contacted by vertical bottom spacer electrodes. Variable-resistance material memory spacer cells are contacted along the edge by electrodes. Processes include the formation of the bottom spacer electrodes as well as the variable-resistance material memory spacer cells. Devices include the variable-resistance memory cells.
机译:可变电阻存储材料单元通过垂直底部间隔电极接触。可变电阻材料存储间隔单元沿边缘通过电极接触。工艺包括底部间隔电极以及可变电阻材料存储间隔单元的形成。器件包括可变电阻存储单元。

著录项

  • 公开/公告号US8338812B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JUN LIU;

    申请/专利号US20080014867

  • 发明设计人 JUN LIU;

    申请日2008-01-16

  • 分类号H01L21/82;H01L21/3205;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:44:25

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