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Method of manufacturing an ultra-high-density capacity comprising pillar-shaped capacitors formed on both sides of a substrate

机译:包括形成在基板的两侧上的柱状电容器的超高密度电容器的制造方法

摘要

Invention describes a kind of super High-Density capacitor designs, are integrated in semiconductor substrate, preferably Si substrates, use the side of two chips. The capacitor column and contain electrode (930,950) by dielectric layer (940). By connection (920) offer, in groove, that runs through the chip of whole thickness.
机译:发明描述了一种超高密度电容器设计,被集成在半导体衬底,优选地Si衬底中,使用两个芯片的侧面。电容器列通过电介质层(940)包含电极(930,950)。通过连接(920),在凹槽中提供贯穿整个厚度的芯片。

著录项

  • 公开/公告号EP2255376B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NXP BV;

    申请/专利号EP20090712370

  • 发明设计人 NEUILLY FRANCOIS;LE CORNEC FRANCOIS;

    申请日2009-02-17

  • 分类号H01L21/02;H01L21/334;H01L23/498;H01L27/06;H01L27/08;H01L29/94;H01L29/66;H01L27/02;H01L21/768;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 16:33:56

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