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PROCESS CONTROL MONITORS FOR INTERFEROMETRIC MODULATORS

机译:干涉仪调制器的过程控制监视器

摘要

micro-electromechanical systems (MEMS) device ( 108) for use in manufacturing the same process steps as those of the at least part of which is generated using the process described for the monitor and control ( 100, 102, 104 ) . Process control monitor may provide information about the component or sub- component of the characteristic of the micro-electromechanical system devices and micro-electromechanical systems device 108, an analysis of the ( 100, 102, 104 ) . This information to determine the error in the process , or by using micro-electromechanical system, it is possible to optimize the device 108. In some embodiments, the analysis of the process control monitor may use the optical measurement .
机译:用于制造与至少其一部分的相同处理步骤的微机电系统(MEMS)设备(108),该处理步骤是使用针对监控器(100、102、104)所述的方法生成的。过程控制监控器可以提供关于微机电系统设备和微机电系统设备108的特性的组成或子组成的信息,以对(100、102、104)进行分析。该信息可以确定过程中的错误,或者通过使用微机电系统来优化设备108。在某些实施例中,过程控制监视器的分析可以使用光学测量。

著录项

  • 公开/公告号KR101232091B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-02-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20077010602

  • 申请日2005-09-16

  • 分类号B81B3/00;G01B11/02;G01N21/55;G02B26/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:41

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