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EUV PELLICLE WITH INCREASED EUV LIGHT TRANSMITTANCE

机译:极紫外光透射率提高的极紫外光电池

摘要

According to one exemplary embodiment, an extreme ultraviolet (EUV) pellicle for protecting a lithographic mask includes an aerogel film. The pellicle further includes a frame for mounting the aerogel film over the lithographic mask. The aerogel film causes the pellicle to have increased EUV light transmittance.
机译:根据一个示例性实施例,一种用于保护平版印刷掩模的极紫外(EUV)防护膜包括气凝胶膜。防护膜还包括用于将气凝胶膜安装在光刻掩模上的框架。气凝胶膜使防护膜的EUV透射率提高。

著录项

  • 公开/公告号KR101321961B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20097011932

  • 申请日2007-11-09

  • 分类号G03F1/62;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:24:18

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