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METHOD OF FORMING BUFFER ARCHITECTURE (VERSIONS) AND MICROELECTRONIC STRUCTURE FORMED THUS

机译:形成缓冲结构(版本)和微电子结构的方法

摘要

FIELD: physics.;SUBSTANCE: method of forming buffer architecture involves forming a GaSb nucleating layer on a substrate, forming a Ga(Al)AsSb buffer layer on the GaSb nucleating layer, forming a lower In0.52Al0.48As barrier layer on the Ga(Al)AsSb buffer layer and forming a InxAl1-xAs transition layer on the lower In0.52Al0.48As barrier layer.;EFFECT: invention enables to make structures with quantum wells based on InGaAs with few defects and the required quality.;20 cl, 3 dwg
机译:领域:物理;实质:形成缓冲体系结构的方法包括在衬底上形成GaSb成核层,在GaSb成核层上形成Ga(Al)AsSb缓冲层,形成较低的In 0.52 Al在Ga(Al)AsSb缓冲层上形成 0.48 As阻挡层,并在下部In上形成In x Al 1-x As过渡层 0.52 Al 0.48 作为阻挡层。效果:本发明使得能够基于基于InGaAs的量子阱制造结构,且缺陷少且所需质量低; 20 cl,3 dwg

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