机译:用于连续真空涂覆基材的设备包括真空室和布置在室内的输送装置,该输送装置被配置为通过各个室沿着输送路径输送基材,并且包括输送辊
公开/公告号DE102011085789A1
专利类型
公开/公告日2013-05-08
原文格式PDF
申请/专利权人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;
申请/专利号DE20111085789
发明设计人 FLEISCHER THOMAS;
申请日2011-11-04
分类号H01J37/32;C23C14/56;C23C16/54;B65G49/06;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 16:22:21