机译:用于校正带电粒子束的照射位置的程序,用于校正带电粒子束的照射位置的装置,带电粒子束的照射系统以及用于校正带电粒子束的照射位置的方法
公开/公告号JP2014183098A
专利类型
公开/公告日2014-09-29
原文格式PDF
申请/专利权人 DAINIPPON PRINTING CO LTD;
申请/专利号JP20130055276
申请日2013-03-18
分类号H01L21/027;H01J37/305;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:18:55