带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序

摘要

本发明的目的在于提供一种带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序，其高精确度地控制带电粒子束的照射量。本发明的带电粒子束照射装置(100)具备：扫描磁铁(3)，在被照射物(52)上扫描带电粒子束(R)；照射量设定部(10)，设定带电粒子束(R)在通过扫描磁铁(3)在被照射物上扫描的带电粒子束(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量；及扫描速度设定部(11)，根据被设定的照射量，设定带电粒子束在各个目标扫描位置上的目标扫描速度。