首页> 外国专利> Plasma confinement ring including RF absorbing material for reducing polymer deposition

Plasma confinement ring including RF absorbing material for reducing polymer deposition

机译:等离子约束环,包括用于减少聚合物沉积的RF吸收材料

摘要

Plasma confinement rings are adapted to reach sufficiently high temperatures on plasma-exposed surfaces of the rings to substantially reduce polymer deposition on those surfaces. The plasma confinement rings include an RF lossy material effective to enhance heating at portions of the rings. A low-emissivity material can be provided on a portion of the plasma confinement ring assembly to enhance heating effects.
机译:等离子体限制环适于在环的等离子体暴露的表面上达到足够高的温度,以实质上减少聚合物在那些表面上的沉积。等离子体约束环包括有效地增强环的各部分的加热的RF损耗材料。可以在等离子约束环组件的一部分上提供低辐射率的材料,以增强加热效果。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号