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Wafer-level interconnect for high mechanical reliability applications

机译:晶圆级互连,用于高机械可靠性应用

摘要

An interconnect structure comprises a solder including nickel (Ni) in a range of 0.01 to 0.20 percent by weight. The interconnect structure further includes an intermetallic compound (IMC) layer in contact with the solder. The IMC layer comprises a compound of copper and nickel.
机译:互连结构包括焊料,该焊料包括0.01至0.20重量%的镍(Ni)。互连结构还包括与焊料接触的金属间化合物(IMC)层。 IMC层包括铜和镍的化合物。

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