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Quasi-vertical gated NPN-PNP ESD protection device

机译:准垂直栅控NPN-PNP ESD保护器件

摘要

Fashioning a quasi-vertical gated NPN-PNP (QVGNP) electrostatic discharge (ESD) protection device is disclosed. The QVGNP ESD protection device has a well having one conductivity type formed adjacent to a deep well having another conductivity type. The device has a desired holding voltage and a substantially homogenous current flow, and is thus highly robust. The device can be fashioned in a cost effective manner by being formed during a BiCMOS or Smart Power fabrication process.
机译:公开了一种准垂直栅控NPN-PNP(QVGNP)静电放电(ESD)保护装置。 QVGNP ESD保护器件具有与具有另一种导电类型的深阱相邻形成的具有一种导电类型的阱。该装置具有所需的保持电压和基本均匀的电流,因此非常坚固。通过在BiCMOS或Smart Power的制造过程中形成器件,可以以节省成本的方式来制造器件。

著录项

  • 公开/公告号US8878283B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MARIE DENISON;PINGHAI HAO;

    申请/专利号US201113171040

  • 发明设计人 MARIE DENISON;PINGHAI HAO;

    申请日2011-06-28

  • 分类号H01L29/66;H01L27/02;H01L29/74;H01L29/87;H01L29/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:02:42

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