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Methods for reducing the metal content in the device layer of SOI structures and SOI structures produced by such methods

机译:减少SOI结构的器件层中的金属含量的方法以及通过这种方法生产的SOI结构

摘要

Methods for producing silicon on insulator structures with a reduced metal content in the device layer thereof are disclosed. Silicon on insulator structures with a reduced metal content are also disclosed.
机译:公开了在其器件层中的具有减少的金属含量的绝缘体结构上制造硅的方法。还公开了具有降低的金属含量的绝缘体上硅结构。

著录项

  • 公开/公告号US8796116B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ALEXIS GRABBE;LARRY FLANNERY;

    申请/专利号US201213354788

  • 发明设计人 ALEXIS GRABBE;LARRY FLANNERY;

    申请日2012-01-20

  • 分类号H01L21/322;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:01:09

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