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Method for testing group III-nitride wafers and group III-nitride wafers with test data

机译:用测试数据测试III族氮化物晶片和III族氮化物晶片的方法

摘要

The present invention discloses a new testing method of group III-nitride wafers. By utilizing the ammonothermal method, GaN or other Group III-nitride wafers can be obtained by slicing the bulk GaN ingots. Since these wafers originate from the same ingot, these wafers have similar properties/qualities. Therefore, properties of wafers sliced from an ingot can be estimated from measurement data obtained from selected number of wafers sliced from the same ingot or an ingot before slicing. These estimated properties can be used for product certificate of untested wafers. This scheme can reduce a significant amount of time, labor and cost related to quality control.
机译:本发明公开了一种III族氮化物晶片的新测试方法。通过使用氨热法,可以通过切块GaN锭来获得GaN或其他III族氮化物晶片。由于这些晶片源自同一锭,因此这些晶片具有相似的特性/质量。因此,可以根据从从相同的锭或切片前的锭中选择的片数的晶圆的选择的测量数据中估计从锭切割的晶片的特性。这些估计的属性可用于未经测试的晶片的产品证书。该方案可以减少与质量控制有关的大量时间,人工和成本。

著录项

  • 公开/公告号US8585822B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIXPOINT MATERIALS INC.;

    申请/专利号US201213728769

  • 申请日2012-12-27

  • 分类号C30B23/00;C30B25/00;C30B28/12;C30B28/14;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:01:04

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