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Thin-film transistor and thin-film diode having amorphous-oxide semiconductor layer

机译:具有非晶氧化物半导体层的薄膜晶体管和薄膜二极管

摘要

A thin-film transistor including a channel layer being formed of an oxide semiconductor transparent to visible light and having a refractive index of nx, a gate-insulating layer disposed on one face of the channel layer, and a transparent layer disposed on the other face of the channel layer and having a refractive index of nt, where there is a relationship of nxnt. A thin-film transistor including a substrate having a refractive index of no, a transparent layer disposed on the substrate and having a refractive index of nt, and a channel layer disposed on the transparent layer and having a refractive index of nx, where there is a relationship of nxntno.
机译:一种薄膜晶体管,包括:沟道层,其由对可见光透明的氧化物半导体形成,并且具有nx的折射率;栅极绝缘层,其设置在所述沟道层的一个面上;以及透明层,其设置在另一面上。沟道层的折射率n为nt,其中nx> nt。一种薄膜晶体管,包括:折射率为no的基板,配置在该基板上且折射率为nt的透明层,以及配置在该透明层上且折射率为nx的沟道层。 nx> nt> no的关系。

著录项

  • 公开/公告号US8716711B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-05-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TATSUYA IWASAKI;

    申请/专利号US201113012125

  • 发明设计人 TATSUYA IWASAKI;

    申请日2011-01-24

  • 分类号H01L29/04;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:59:38

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