首页> 外国专利> A method to evaluate the presence of a source of x-ray beam inhomogeneity during x-ray exposure.

A method to evaluate the presence of a source of x-ray beam inhomogeneity during x-ray exposure.

机译:一种评估X射线曝光期间X射线束不均匀性源的存在的方法。

摘要

A method to evaluate the presence of a source of x-ray beam in-homogeneity during x-ray exposure.;A statistical analysis is performed on pixel values of at least one region of interest in an image obtained by substantially uniform irradiation of an x-ray detector and deciding upon the presence of a source of x-ray beam in-homogeneity by comparing the results of the statistical analysis with at least one predetermined acceptance criterion.
机译:一种评估X射线曝光过程中X射线束不均匀源的存在的方法;对通过对X射线进行基本均匀照射而获得的图像中至少一个感兴趣区域的像素值进行统计分析射线检测器,并通过将统计分析结果与至少一个预定的接受标准进行比较来确定是否存在不均匀的X射线源。

著录项

  • 公开/公告号EP2675151A1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AGFA HEALTHCARE;

    申请/专利号EP20120171474

  • 发明设计人 CRESENS MARC;VAN GOUBERGEN HERMAN;

    申请日2012-06-11

  • 分类号H04N5/32;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 15:47:38

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号