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Method to evaluate the presence of a source of x-ray beam inhomogeneity during x-ray exposure

机译:评估x射线曝光过程中x射线束不均匀性源的存在的方法

摘要

A statistical analysis is performed on pixel values of at least one region of interest in an image obtained by substantially uniform irradiation of an x-ray detector and deciding upon the presence of a source of x-ray beam in-homogeneity by comparing the results of the statistical analysis with at least one predetermined acceptance criterion.
机译:对图像中至少一个感兴趣区域的像素值进行统计分析,该图像是通过对X射线检测器进行基本均匀的辐照并通过比较X射线分析仪的结果来确定是否存在X射线束不均匀性源而获得的具有至少一个预定接受标准的统计分析。

著录项

  • 公开/公告号US9741102B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AGFA HEALTHCARE NV;

    申请/专利号US201314402363

  • 发明设计人 MARC CRESENS;HERMAN VAN GOUBERGEN;

    申请日2013-06-05

  • 分类号G06K9;G06T5;H04N5/32;G01T7;G06T7;G01N23/04;G06T5/40;G06T7/80;H04N5/365;A61B6;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:45:23

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