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A METHOD TO EVALUATE THE PRESENCE OF A SOURCE OF X-RAY BEAM INHOMOGENEITY DURING X-RAY EXPOSURE

机译:一种评估X射线照射期间X射线束不均匀性来源的存在的方法

摘要

A statistical analysis is performed on pixel values of at least one region of interest in an image obtained by substantially uniform irradiation of an x-ray detector and deciding upon the presence of source of x-ray beam in-homogeneity by comparing the results of the statistical analysis with at least one predetermined acceptance criterion.
机译:对图像中至少一个感兴趣区域的像素值进行统计分析,该图像是通过对X射线检测器进行基本均匀的辐照并通过比较X射线检测器的结果来确定是否存在X射线束不均匀源而获得的具有至少一个预定接受标准的统计分析。

著录项

  • 公开/公告号WO2013186099A1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AGFA HEALTHCARE;

    申请/专利号WO2013EP61591

  • 发明设计人 CRESENS MARC;VAN GOUBERGEN HERMAN;

    申请日2013-06-05

  • 分类号H04N5/32;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 15:52:45

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