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OPTOELECTRONIC GAN-BASED COMPONENT HAVING INCREASED ESD RESISTENCE VIA A SUPERLATTICE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF

机译:通过超晶格增加了ESD电阻的基于光电GAN的组件及其制造方法

摘要

An optoelectronic component (10) comprises a semiconductor layer structure (100) that has a quantum film structure as an active layer (140) and a p-doped layer (160) that is provided on top of said quantum film structure (140). The p-doped layer (160) comprises at least a first partial layer (161) and a second partial layer (162). The second partial layer (162) has a higher degree of doping (323) than the first partial layer (161).
机译:光电子部件(10)包括具有作为有源层(140)的量子膜结构的半导体层结构(100)和设置在所述量子膜结构(140)之上的p掺杂层(160)。 p掺杂层(160)包括至少第一部分层(161)和第二部分层(162)。第二部分层(162)具有比第一部分层(161)更高的掺杂度(323)。

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