首页> 外国专利> METHODS AND APPARATUS FOR DETECTING AZIMUTHAL NON-UNIFORMITY IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM

METHODS AND APPARATUS FOR DETECTING AZIMUTHAL NON-UNIFORMITY IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM

机译:检测等离子体处理系统中方位不均匀性的方法和装置

摘要

An apparatus and methods for assessing RF return current azimuthal uniformity are disclosed. A plurality of non-linear substantially-enclosed RF current sensors is disposed azimuthally around a central axis of a plasma processing chamber. When plasma is ignited in a plasma processing chamber, the RF return currents are sensed by the non-linear substantially-enclosed RF current sensors and analyzed to identify whether RF return current azimuthal uniformity is acceptable.
机译:公开了一种用于评估RF返回电流方位均匀性的设备和方法。多个非线性基本上封闭的RF电流传感器围绕等离子体处理室的中心轴方位地布置。当在等离子体处理室中点燃等离子体时,非线性基本封闭的RF电流传感器感测到RF返回电流,并对其进行分析以识别RF返回电流方位均匀性是否可以接受。

著录项

  • 公开/公告号KR20130139187A

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LAM RESEARCH CORPORATION;

    申请/专利号KR20130066697

  • 发明设计人 MARAKHTANOV ALEXEI;DHINDSA RAJINDER;

    申请日2013-06-11

  • 分类号H05H1/46;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:44:39

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号