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FABRICATION METHOD OF METAL GATES-EMBEDDED NANOCHANNEL

机译:嵌入金属门的纳米通道的制备方法

摘要

The present invention relates to a method of fabricating a nanochannel with embedded metal gates. According to an embodiment of the present invention, the fabrication method of the nanochannel with embedded metal gates includes steps of forming a first to a seventh layer on the upper surface of a substrate (101) and etching from the first to the seventh layer.
机译:本发明涉及一种制造具有嵌入式金属栅极的纳米通道的方法。根据本发明的一个实施例,具有嵌入的金属栅极的纳米通道的制造方法包括以下步骤:在衬底(101)的上表面上形成第一至第七层,以及从第一至第七层进行蚀刻。

著录项

  • 公开/公告号KR20140014454A

    专利类型

  • 公开/公告日2014-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NANOCHIPS INC.;

    申请/专利号KR20120080414

  • 发明设计人 CHOI JUNG BUM;LEE JONG JIN;

    申请日2012-07-24

  • 分类号H01L21/336;H01L29/78;H01L21/205;H01L21/304;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:43:46

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