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ELECTROLESS DEPOSITION OF CONTINUOUS PALLADIUM LAYER USING COMPLEXED Co2+ METAL IONS OR Ti3+ METAL IONS AS REDUCING AGENTS

机译：复杂的Co2 +金属离子或Ti3 +金属离子作为还原剂的连续钯层的化学沉积

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摘要

A solution for electroless deposition of palladium is provided. A reducing agent of Co²⁺ or Ti³⁺ ions is provided to the solution. Pd²⁺ ions are provided to the solution.

机译：提供了用于化学沉积钯的溶液。向溶液中提供Co ^{2 + 或Ti ^{3 + 离子的还原剂。将Pd ^{2 + 离子提供给溶液。}}}

著录项

公开/公告号US2015307995A1

专利类型
公开/公告日2015-10-29

原文格式PDF
申请/专利权人 LAM RESEARCH CORPORATION;
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申请/专利号US201414265001
发明设计人 EUGENIJUS NORKUS;ALDONA JAGMINIENE;INA STANKEVICIENE;ANIRUDDHA JOI;YEZDI DORDI;
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申请日2014-04-29
分类号C23C18/52;H01L21/288;
国家 US
入库时间 2022-08-21 15:26:21

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