首页> 外国专利> Symmetrical inductively coupled plasma source with side RF feeds and RF distribution plates

Symmetrical inductively coupled plasma source with side RF feeds and RF distribution plates

机译:带有侧向射频馈源和射频分配板的对称电感耦合等离子体源

摘要

A plasma reactor has an overhead multiple coil inductive plasma source with symmetric and radial RF feeds and cylindrical RF shielding around the symmetric and radial RF feeds. The radial RF feeds are symmetrically fed to the plasma source.
机译:等离子体反应器具有高架的多线圈感应等离子体源,其具有对称和径向RF馈源,以及围绕对称和径向RF馈源的圆柱形RF屏蔽。径向RF馈电对称地馈送到等离子体源。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号