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Diffraction Grating Modelling

机译:衍射光栅建模

摘要

A diffraction grating modelling systems and methods are disclosed. A database comprises a plurality of records, each labelled by a diffraction parameter set that describes a diffraction scenario. A scattering map describes a field transformation induced in that scenario. Various techniques for maintaining and using the database are disclosed.
机译:公开了一种衍射光栅建模系统和方法。数据库包括多个记录,每个记录都由描述衍射场景的衍射参数集标记。散射图描述了在这种情况下引起的场转换。公开了用于维护和使用数据库的各种技术。

著录项

  • 公开/公告号US2016283618A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAPANI LEVOLA;PASI SAARIKKO;

    申请/专利号US201514670242

  • 发明设计人 TAPANI LEVOLA;PASI SAARIKKO;

    申请日2015-03-26

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:36:00

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